Новое программное обеспечение от Nvidia призвано помочь ADLS, TSMC и Synopsis ускорить производство чипов.
Иллюстрация ADSL показывает полный путь света от источника Extreme Ultrav(iolet Lithography) (внизу справа) до осветителя (в центре справа), который управляет световым лучом, отражается от маски с рисунком чипа (вверху) перед фокусировкой. проекционная оптика (в середине слева) и обнажение кремниевой пластины (в середине внизу).
Иллюстрация ADSL показывает полный путь света от источника Extreme Ultrav(iolet Lithography) (внизу справа) до осветителя (в центре справа)CuLitho
Nvidia анонсировала программную библиотеку cuLitho для вычислительной литографии на GTC 2023, которая будет развернута TSMC для своих производственных работ, начиная с июня.
Помимо TSMC, Nvidia работает с ASML и Synopsis над cuLitho, чтобы помочь перевести чипы на 2-нм техпроцесс, а также уменьшить выбросы углекислого газа на фабриках, сказал во вступительном слове генеральный директор Дженсен Хуанг.
CuLitho работает на графических процессорах и обещает 40-кратный скачок производительности по сравнению с текущими процессами литографии. Литография используется для создания рисунков схем на кремниевой пластине и составляет основу производства современных полупроводников.
Хуанг сказал, что cuLitho значительно сократит площадь производственного оборудования.
Имея 500 суперкомпьютеров Nvidia DGX H100, фабрики смогут заменить работу 40 000 систем ЦП, выполняя все этапы процессов вычислительной литографии параллельно, чтобы снизить энергопотребление.
Он сказал, что фабрики, использующие cuLitho, могут в пять раз увеличить количество фотошаблонов, производимых каждый день, при этом потребляя в 9 раз меньше энергии, чем текущие процессы.
Nvidia заявила, что фотомаска (шаблон для дизайна чипа), на изготовление которой ушло две недели, теперь может быть обработана за ночь за восемь часов.
ASML, производящая машины для производства микросхем, стоимость которых может достигать 250 миллионов долларов за штуку, заявила, что cuLitho должна принести огромные выгоды, позволив гораздо более масштабировать выпуск микросхем.
Компания Synopsis заявила, что «значительно ускорила» свое программное обеспечение для коррекции оптической близости с помощью cuLitho, тем самым сократив требуемое время с недель до дней.
«Потребности центров обработки данных растут быстрее, чем закон Мура, — сказал Вивек Сингх, архитектор cuLitho в Nvidia.
В последние годы большее количество транзисторов в узлах микросхем меньшего размера потребовало большей точности при производстве микросхем.