Что такое система плазменной очистки?

Что такое система плазменной очистки?

Система плазменной очистки — это высокопроизводительное устройство, которое излучает плазму на поверхность материала для выполнения таких задач, как очистка, стерилизация и нанесение покрытия.

Плазма — это особое состояние газа, содержащее заряженные частицы, которые генерируются путем передачи энергии газу, и характеризуется чрезвычайно высокой реакционной способностью по отношению к молекулам.

Эффективность систем плазменной очистки зависит от типа используемого газа и метода, используемого для создания плазмы.

Например, плазмообразующие газы, такие как кислород и азот, оказывают очищающее и стерилизующее действие на поверхности материалов. Плазмообразование газов, таких как кремний и фтор, может образовывать слой покрытия на поверхности материала.

При рассмотрении использования систем плазменной очистки важно выбрать подходящую систему для цели и применения. Например, в медицинском оборудовании и пищевой промышленности акцент должен быть сделан на очистке и стерилизации, в то время как в областях, где требуются износостойкость и химическая стойкость, акцент должен быть сделан на производительности покрытия.

Применение систем плазменной очистки

Системы плазменной очистки используют плазму с высокой энергией и реактивностью и используются в различных промышленных областях. Они используются в широком диапазоне применений, от областей, требующих передовых технологий, до экологических и санитарных аспектов.

Возможности очистки, формирования пленки и травления плазменных систем очистки особенно полезны при производстве полупроводниковых интегральных схем и других компонентов точного оборудования. В результате продукция производится быстро и качественно, что способствует развитию передовых технологий.

Системы плазменной очистки также могут использоваться для детоксикации промышленных отходов. Они могут разлагать опасные вещества и минимизировать их воздействие на окружающую среду. Кроме того, они также используются для дезинфекции и стерилизации пищевых продуктов и химикатов, способствуя повышению безопасности.

Принцип работы систем плазменной очистки

По мере повышения температуры вещества его состояние меняется с твердого на жидкое и с жидкого на газообразное. По мере повышения температуры газа электроны в атомах разделяются на положительные ионы и электроны. Это явление называется ионизацией, а газ в высокоэнергетическом состоянии, созданный ионизацией, является плазмой.

Существует два основных типа систем плазменной очистки: системы плазмы атмосферного давления и системы плазмы низкого давления.

1. Система очистки плазмой атмосферного давления

Как следует из названия, системы очистки плазмой атмосферного давления генерируют плазму при атмосферном давлении. Плазма генерируется путем пропускания инертных газов или кислорода через электроды, к которым приложено высокое напряжение.

Вакуумная среда не требуется, а плотность ионов выше, чем у плазмы низкого давления. Однако недостатком является то, что объект должен находиться как можно ближе к месту облучения.

2. Система очистки плазмой низкого давления

Системы очистки плазмой низкого давления генерируют плазму в вакуумной среде. Хотя ее использование ограничено вакуумной средой, для нее не требуется газ. Кроме того, устройство может облучаться на определенном расстоянии от объекта, поэтому нет необходимости беспокоиться о месте установки устройства.

Другая информация о системах очистки плазмой

Машины, используемые в сочетании с системами плазменной очистки

Плазменная технология в основном используется в сочетании с вакуумными камерами, электродными системами и системами подачи газа.

1. Вакуумная камера
Большая часть плазменной обработки происходит внутри вакуумной камеры. Вакуумная камера создает подходящую среду для генерации плазмы, перекрывая внешний газ и заполняя ее определенным газом внутри.

Плазма, образующаяся внутри вакуумной камеры, может использоваться для очистки, травления, нанесения покрытий и других процессов.

2. Система электродов
Плазма образуется путем подачи электромагнитных волн или электрического поля в газ. Поэтому электродное устройство, используемое совместно с системой плазменной очистки, играет важную роль.

Система очистки электродов подает соответствующую энергию газу и способствует образованию плазмы. Форма и расположение системы электродов влияют на характеристики системы плазменной очистки и метод обработки, поэтому важно выбрать соответствующую систему электродов.

3. Оборудование для подачи газа
В системах плазменной очистки используются различные газы. Оборудование для подачи газа будет подавать необходимые газы в вакуумную камеру с соответствующей скоростью потока и давлением. Тип и количество подаваемого газа будут влиять на свойства плазмы и скорость реакции, поэтому точность системы подачи газа напрямую влияет на качество плазменного процесса.