Что такое система химического осаждения из паровой фазы (CVD)?

Что такое система химического осаждения из паровой фазы (CVD)?

Система химического осаждения из паровой фазы (CVD) — это устройство, используемое для выращивания тонких пленок и обработки поверхности. CVD использует химическую реакцию для осаждения веществ из газовой фазы на твердую поверхность, нагревая подложку и подавая реактивные газы для формирования пленок или покрытий. Этот процесс является высококонтролируемым и воспроизводимым и обеспечивает точный контроль свойств пленки. Однако необходима осторожность из-за токсичности многих используемых газов.

Применение систем химического осаждения из паровой фазы (CVD)

Системы CVD жизненно важны в производстве полупроводников, оптических покрытий и защитных покрытий. Они используются для создания изолирующих слоев, проводящих слоев, спектральных фильтров, антибликовых покрытий и защитных поверхностей на различных материалах.

1. Производство полупроводников

В полупроводниковой промышленности CVD имеет решающее значение для создания пленок SiO2 на кремниевых подложках, используемых в качестве оксида затвора и изоляторов, а также для формирования проводящих слоев с такими металлами, как медь или алюминий.

2. Оптические покрытия

CVD является неотъемлемой частью производства многослойных оптических фильтров, отражающих зеркальных покрытий для лазерных лучей и защитных покрытий линз.

3. Защитное покрытие

Используется для повышения коррозионной и износостойкости металлических поверхностей, CVD применяется для обработки поверхности режущих инструментов, датчиков и керамических материалов.

Принцип работы системы химического осаждения из паровой фазы (CVD)

Процесс CVD включает подачу реакционных газов на нагретую подложку, где они химически реагируют и осаждают элементы и химикаты на поверхности подложки. Контроль параметров осаждения является ключом к достижению желаемых характеристик тонкой пленки.

Типы систем химического осаждения из паровой фазы (CVD)

Существуют различные системы CVD, каждая из которых имеет уникальные механизмы и области применения.

1. Система термического химического осаждения из паровой фазы (CVD)

Термические системы CVD реагируют с сырьевыми газами при высоких температурах либо на подложке, либо внутри сосуда для создания пленок. Они бывают двух типов: с подогревом подложки и с подогревом контейнера.

2. Система плазменного осаждения из паровой фазы (CVD)

Плазменные системы CVD формируют пленки, создавая плазменное состояние сырьевого газа и осаждая его на подложке. Они особенно полезны для производства полупроводников, требующего точных размеров.

3. Система оптического химического осаждения из паровой фазы (CVD)

Оптические системы CVD используют свет для инициирования химических реакций в газовой фазе. Они способны производить пленки при очень низких температурах по сравнению с другими системами CVD.