Поиск по статьям
Все про умный дом
Все о пожарной безопасности
Сейчас читают
- Как смотреть youtube без тормозов и замедленияЕсли Вы на этой странице, то Вам, скорее всего, […]
- 10 лучших прогрессивных языков программирования для разработки мобильных приложенийЗнаете ли вы, что мобильные приложения — это не только […]
- 6 важных особенностей, которые следует учитывать при строительстве нового домаСтроительство нового дома – это уникальная возможность […]
Гороскоп на Сегодня
Что такое машина для химико-механической полировки (CMP)?
Машина CMP используется для полировки кремниевых пластин. Полупроводники производятся в крошечных масштабах, требующих равномерной высокоточной полировки. Кроме того, они имеют много слоев различной твердости, каждый из которых должен полироваться с использованием соответствующего давления, абразивов и химикатов. Во время полировки поверхности и неровности химически реагируют и механически удаляются наждачной бумагой или другими инструментами в соответствии с составом каждого полупроводникового слоя.
Применение машин CMP
Машины CMP в основном используются в процессе производства полупроводников. CMP используется в процессе производства полупроводников для выравнивания неровной поверхности после травления, формирования оксидной пленки, диффузии ионов и т. д. CMP обеспечивает точное выравнивание и облегчает дальнейшее наслаивание на выровненную поверхность. При выборе системы CMP необходимо учитывать точность планаризации, используемые химикаты и жидкости, а также скорость обработки кремниевых пластин.
Принципы машин CMP
В этом разделе описывается принцип работы машин CMP, которые, как правило, большие, для обработки большого количества кремниевых пластин за один раз на высокой скорости. Компоненты — вращающийся столик, полировальная секция с соплами для нанесения химикатов и химикатов, наждачная бумага и т. д. Кроме того, также включены робот для транспортировки кремниевых пластин, секция очистки после полировки и секция обнаружения выше.
Основная операция — распыление химикатов и химических агентов на кремниевые пластины через сопла, прижатие наждачной бумаги и т. д. к пластинам и их полировка путем вращения столика на высокой скорости. Целями химической полировки являются оксидная пленка, вольфрамовая проводка и медная проводка. В случае оксидной пленки пленка растворяется в щелочном растворе и полируется оксидом кремния того же состава. Для вольфрамовой проводки поверхностная часть вольфрама окисляется, а поверхность полируется оксидом кремния. В случае медной проводки медь окисляется, затем комплексуется и полируется оксидом кремния и т. д.